Plasma 3000雙向觀(guān)測全譜ICP光譜儀

Plasma 3000雙向觀(guān)測全譜ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

垂直火炬，雙向觀(guān)測，冷錐消除尾焰，具有更寬的動(dòng)態(tài)線(xiàn)性范圍和更低的背景。

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，高效穩定，體積小巧，匹配速度快，確保儀器的高精度運行及優(yōu)異的長(cháng)期穩定性。

高速面陣 CCD 采集技術(shù)，單次曝光獲取全部譜線(xiàn)信息，實(shí)現“全譜直讀”。

功能強大的軟件系統，簡(jiǎn)化分析方法的開(kāi)發(fā)過(guò)程。應用工程師加入設計團隊，為用戶(hù)量身打造簡(jiǎn)潔、舒適的操作體驗。

分光系統

徑向觀(guān)測與軸向觀(guān)測設計，適應亞 ppm 到高含量的元素測量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，使用 CaF2 棱鏡，提高光路傳輸效率。 優(yōu)化的光學(xué)設計，采用非球面光學(xué)元件，改善成像質(zhì)量，提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術(shù)，縮短光室充氣時(shí)間，提高紫外光譜靈敏度及穩定性，開(kāi)機即可測量。 包圍式立體控溫系統，保障光學(xué)系統長(cháng)期穩定無(wú)漂移。

 光源

固態(tài)射頻發(fā)生器，高效穩定，體積小巧，效率高，匹配速度快，能適應各種復雜基體樣 品及揮發(fā)性有機溶劑的測試，均能獲得長(cháng)期穩定性。 垂直炬管的設計，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。 冷錐消除尾焰技術(shù)，降低自吸效應和電離干擾，從而獲得更寬的動(dòng)態(tài)線(xiàn)性范圍和低背景，保證準確的測量結果。 具有綠色節能待機模式，待機時(shí)降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運行，節約使 用成本。

簡(jiǎn)潔的炬管安裝定位設計，快速定位，精確的位置重現。 實(shí)時(shí)監控儀器運行參數，高性能 CAN 工業(yè)現場(chǎng)總線(xiàn)，保障通訊高效可靠。

 進(jìn)樣系統

簡(jiǎn)潔的炬管安裝設計，自動(dòng)定位炬管位置，精確的位置重現。 儀器配備系列經(jīng)過(guò)優(yōu)化的進(jìn)樣系統，可用于有機溶劑、高鹽 / 復雜基體樣品、等樣品的測試。

使用可拆卸式或一體式炬管，易于維護，轉換快速，使用成本低。 使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測試性能長(cháng)期穩定。 多通道 12 滾輪蠕動(dòng)泵，提升樣品導入穩定性。

檢測器

大面積背照式 CCD 檢測器 , 全譜段響應，高紫外量子化效率，抗飽和溢出，具有極寬的動(dòng)態(tài)范 圍和極快的信號處理速度。 一次曝光，完成全譜光譜信號的采集讀取，從而獲得更為快速、準確的分析結果。 同類(lèi)產(chǎn)品中大靶面尺寸，*像素，單像素面積 24μm X 24μm，三級半導體制冷 , 制冷溫 度 低，具有更低的噪聲和更好的穩定性。

軟件系統

人性化的界面設計，流暢易懂，簡(jiǎn)便易用，針對分析應用優(yōu)化的軟件系統，無(wú)須復雜的方法開(kāi)發(fā)， 即可快速開(kāi)展分析操作。

豐富的譜線(xiàn)庫，智能提示潛在干擾元素，幫助用戶(hù)合理選擇分析譜線(xiàn)。 輕松的觀(guān)測方式設置，直觀(guān)的測試結果顯示。

安全防護

*電磁屏蔽，減少電磁輻射 連鎖門(mén)保護，避免用戶(hù)誤操作可能帶來(lái)的風(fēng)險 防紫外觀(guān)測窗

分析性能

檢    出    限：亞 ppb- ppb 短期穩定性：RSD ≤ 0.5%（1mg/L） 長(cháng)期穩定性：RSD ≤ 1.0%（4h，1mg/L）

光 源

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，功率連續 1 瓦可調 震蕩頻率：27.12MHz

輸出功率：700W-1600W 功率穩定性：< 0.1%

Plasma 3000雙向觀(guān)測全譜ICP光譜儀儀器規格

尺 寸：寬 x 深 x 高（106cm x 67cm x 75cm） 重 量：約 180kg

光學(xué)系統

分析譜線(xiàn)范圍：165-950nm

分  辨  率： 0.007nm@200nm 光室恒溫：38℃ ±0.1℃

CCD 像素：1024x 1024

單像素面積：24μm x 24μm

工作環(huán)境

實(shí)驗室濕度環(huán)境：相對濕度 20%~80% 氬氣純度：不小于 99.95%

排 風(fēng)：不小于 400 立方米 / 小時(shí)

電 源：200V~240V AC 單相；50Hz~60Hz；4kVA